Helios 5 EXL – Công ty TNHH TM DV KT Minh Khang

Minh Khang — Mon, 01 Apr 2024 03:16:34 +0000

Nhu cầu v�?thiết b�?điện t�?hiệu suất cao, tiết kiệm năng lượng đang thúc đẩy s�?phát triển của các thiết b�?tiên tiến với các tính năng ngày càng nh�?hơn, dày đặc hơn và cấu trúc 3D phức tạp. Việc tăng cường sản xuất các b�?vi x�?lý, thiết b�?b�?nh�?tiên tiến này và các sản phẩm khác là vô cùng khó khăn và đòi hỏi phải phân tích �?quy mô nguyên t�? đ�?phân giải cao v�?các tính năng ẩn sâu bên trong thiết b�? Kính hiển vi điện t�?truyền qua (TEM) đang ngày càng tr�?thành k�?thuật phù hợp cho loại phân tích này và dựa vào các mẫu chất lượng cao được tạo ra bằng phương pháp ion hội t�?(FIB).

Helios 5 EXL là kính hiển vi ion hội t�?kết hợp điện t�?quét (FIB-SEM) 300mm, được thiết k�?đ�?giải quyết các thách thức v�?chuẩn b�?mẫu TEM trong ngành bán dẫn. Helios 5 EXL DualBeam có kh�?năng chuẩn b�?mẫu cho các nút quy trình tiên tiến nhất hiện nay, bao gồm công ngh�?dưới 5nm và công ngh�?toàn cổng.

Tối đa hóa công suất và năng suất mẫu

Bằng cách s�?dụng công ngh�?học máy tiên tiến và điểm cuối vòng kín, Helios 5 EXL DualBeam mang lại đ�?chính xác v�?trí cắt nâng cao và cho phép bạn trích xuất một cách nhất quán các tấm lamella chất lượng cao t�?các mẫu th�?thách nhất của mình.

Kh�?năng t�?động hóa học máy tiên tiến giúp tạo ra mẫu TEM siêu mỏng một cách nhất quán và thường xuyên, cung cấp thông tin chi tiết, dưới nanomet v�?nhiều giao diện và cấu hình hơn đ�?đo �?đ�?phân giải dưới nanomet. Helios 5 EXL DualBeam đảm bảo quy trình chuẩn b�?mẫu TEM hiệu qu�?và nhất quán bằng cách kết hợp định v�?lớp wafer và các lỗi với việc xác định và thực hiện công thức trong một chương trình tích hợp đầy đ�? duy nhất. Tính năng t�?động hóa này h�?tr�?t�?l�?công c�?trên người vận hành cao hơn, tối đa hóa dung tích mẫu và năng suất tài nguyên k�?thuật.